コンペティション マエストロ・グワント一次締切=4月20日
April 12, 2007｜展覧会
四谷アート・ステュディウムでは、毎年本校在籍または在籍経験のあるアーティストを対象に、コンペティション「マエストロ・グワント」を開催します。受賞者には「マエストロ・グワント（名人の手袋）」を授与するとともに、GALLERY OBJECTIVE CORRELATIVEにて個展（またはグループ展）を開催します。
絵画、彫刻、パフォーマンス、音楽など、応募作品の形式は問いません。
一次選考（ポートフォリオ）の締め切りは、4月20日（金）です。ふるってご応募ください。
■選考方法 / 日程
［1次選考］
ポートフォリオ（過去の作品資料。写真、DVDなど。過去の発表歴がある場合は、記してください）
※選考時間は、一人につき5分程度です。
4月20日（金）締切
［2次選考］
作品および面接
6月上旬予定
［展覧会］
9月10日(月）－24日（月・祝）※予定
■審査員
岡崎乾二郎（造形作家 / 四谷アート・ステュディウム主任ディレクター）
小野弘人（建築家 / 西片建築設計事務所主宰）
中村麗（インディペンデント・キュレーター、編集者）
林道郎（西洋美術史、美術批評 / 上智大学国際教養学部教授）
松浦寿夫（画家、西欧近代絵画史 / 東京外国語大学教授）
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