募集要項
■応募作品
絵画、彫刻、パフォーマンス、音楽など、作品形式は問いません。
■応募資格
四谷アート・ステュディウム在籍中※または、過去に在籍経験のあるアーティスト
※2007年度受講生を含みます。
■選考方法
1次選考 : ポートフォリオ
（過去の作品資料。写真、DVDなど。過去の発表歴がある場合は、記してください）
選考時間は、一人につき5分程度です。
2次選考 : 作品および面接
■賞
受賞者には「マエストロ・グワント（名人の手袋）」を授与するとともに、GALLERY OBJECTIVE
CORRELATIVEにて個展（またはグループ展）を開催します。
また、展覧会の広報 / 宣伝の一部を主催者が協力します
（チラシまたはDMの作成および送料補助）。
第1回（2006年）受賞アーティスト 橋本聡（2005年度修了生）
■応募期間 / 日程
[一次選考]
1次選考募集締切 : 4月20日［金］
1次選考結果発表※: 5月14日［月］
[二次選考]
2次選考 : 6月上旬
2次選考結果発表※: 6月中旬
※選考結果は、本人宛に通知いたします。
[展覧会]
展覧会期間 : 9月10日［月］─ 9月24日［月・祝］（予定）
■選考委員
岡崎乾二郎（造形作家 / 四谷アート・ステュディウム主任ディレクター）
小野弘人（建築家 / 西片建築設計事務所主宰）
中村麗（インディペンデント・キュレーター、編集者）
林道郎（西洋美術史、美術批評 / 上智大学国際教養学部教授）
松浦寿夫（画家、西欧近代絵画史 / 東京外国語大学教授）