募集要項
■応募作品
絵画、彫刻、パフォーマンス、音楽など、作品形式は問いません。
■対象者
本校在籍または在籍経験のあるアーティストで、
制作ワークショップにて発表経験のある者に限ります
(過去の応募者で、受賞者以外の者は応募可能です)。
■賞
−マエストロ・グワント(四谷アート・ステュディウム最優秀アーティスト賞)1名
GALLERY OBJECTIVE CORRELATIVEでの個展
−マエストロ・グワント優秀者賞・審査員賞各数名
同ギャラリーでのグループ展
ともに展覧会の広報の一部を主催者が協力します。
■選考方法・日程
1次選考|ポートフォリオ選考……4月30日[月]必着
2次選考|作品展示(1次選考通過者による展覧会)および審査会(面接)
作品展示(1次選考通過者による展覧会)
……6月15日[火]―6月19日[土]
審査会(面接)
……6月20日[日]
[1次選考]
-ポートフォリオ=過去の作品資料(写真、DVDなど)による選考を行ないます。
-作品の発表歴がある場合は、ポートフォリオまたは応募用紙に記してください。
-選考時間は一人につき5分程度です。
-1次選考結果は、通過者にのみ通知します(5月15日頃までに通知予定)。
[2次選考]
1…作品
-1次選考通過者によるグループ展覧会を、GALLERY OBJECTIVE
CORRELATIVEにて行ないます。展覧会は一般公開されます。
-出品作品は新作、旧作を問いません。
2…審査会(面接)
-1次選考通過者による展覧会場にて面接を行ないます。
-2次選考結果は、四谷アート・ステュディウムWEBサイトにて発表いたします。
■受賞者展覧会
-マエストロ・グワント(四谷アート・ステュディウム最優秀アーティスト賞) 個展
10月1日[金]-10月13日[水](予定)
-優秀者賞・審査員賞 グループ展
期間A:10月18日[月]-10月29日[金](予定)
期間B:11月4日[木]-11月15日[月](予定)