募集要項
■応募作品
絵画、彫刻、パフォーマンス、音楽など、作品形式は問いません。
■対象者
本校在籍または在籍経験のあるアーティストで、
制作ワークショップにて発表経験のある者に限ります
（過去の応募者で、受賞者以外の者は応募可能です）。
■賞
−マエストロ・グワント（四谷アート・ステュディウム最優秀アーティスト賞）1名
GALLERY OBJECTIVE CORRELATIVEでの個展
−マエストロ・グワント優秀者賞・審査員賞各数名
同ギャラリーでのグループ展
ともに展覧会の広報の一部を主催者が協力します。
■選考方法・日程
1次選考｜ポートフォリオ選考――4月27日［月］必着
2次選考｜作品および審査会（面接）――6月21日［日］
1次選考通過者による展覧会
――6月16日［火］－6月20日［土］
マエストロ・グワント受賞者による個展
――10月1日［木］－10月7日［土］（予定）
優秀賞・審査員賞受賞者によるグループ展
――10月22日［木］－11月7日［土］（予定）、11月12日［木］－11月28日［土］（予定）
［1次選考］
－ポートフォリオ＝過去の作品資料（写真、DVDなど）による選考を行ないます。
－作品の発表歴がある場合は、ポートフォリオまたは応募用紙に記してください。
－選考時間は一人につき5分程度です。
－1次選考結果は、通過者にのみ通知します（5月20日頃までに通知予定）。
［2次選考］
1…作品
－1次選考通過者によるグループ展覧会を、GALLERY OBJECTIVE
CORRELATIVEにて行ないます。展覧会は一般公開されます。
－出品作品は新作、旧作を問いません。
2…審査会（面接）
－1次選考通過者による展覧会場にて面接を行ないます。
－2次選考結果は、四谷アート・ステュディウムWEBサイトにて発表いたします。